Главная → Материаловедение → Методы получения сверхчистых материалов Методы получения сверхчистых материалов Химические методы Химические методы получения простых полупроводников и чистых элементов, используемых при легировании и в производстве сложных полупроводниковых материалов, обеспечивают высокую степень очистки. Дистилляцией (испарение жидкой фазы) удаляют легкоиспаряющиеся примеси, ректификацией (многократное испарение и конденсация) — примеси, имеющие невысокие температуры плавления, испарения и большой интервал жидкого состояния. Сублимацией (испарение твердой фазы) очищают от механических примесей и газов и получают монокристалл. Перечисленными методами можно получать монокристаллы с высоким значением удельного электросопротивления. Например, монокристалл германия при р = 0,10 Ом-м содержит в 1 м3 1020 атомов примесей (см. рис. 18.10). Более глубокую очистку полупроводниковых материалов (для германия р > 0,45 Ом • м), а также легирование в строго контролируемых микродозах проводят кристаллофизическими методами. Основными из них являются методы направленной кристаллизации из расплава.   21.10.2009, 1365 просмотров. Читать дальше: 1 2 3 4 5 6 7